一般セッション(口頭講演)
[12p-A205-1~15] 8.2 プラズマ成膜・エッチング・表面処理
2020年3月12日(木) 13:45 〜 18:00 A205 (6-205)
太田 貴之(名城大)、深沢 正永(ソニーセミコンダクタソリューションズ)、岩瀬 拓(日立製作所)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
13:45 〜 14:00
〇李 虎1、 伝宝 一樹1 (1.東京エレクトロン)
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14:00 〜 14:15
〇(M2)小川 慎1、 小田 昭紀1、 太田 貴之2、 上坂 裕之3 (1.千葉工大工、2.名城大理工、3.岐阜大工)
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14:15 〜 14:30
〇安藤 あゆみ1、 浦谷 昭太1、 中村 慶子1、 釆山 和弘1 (1.株式会社サクラクレパス)
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14:30 〜 14:45
〇大久保 雄司1、 中川 哲哉1、 遠藤 勝義1、 山村 和也1 (1.阪大院工)
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14:45 〜 15:00
〇織田 祥成1、 堤 隆嘉1、 石川 健治1、 堀 勝1 (1.名大)
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15:15 〜 15:30
〇羽澄 匡広1、 スガンサマラー セルヴァラジ2、 蕭 世男2、 関根 誠2、 林 久貴3,2、 佐々木 俊行3、 阿部 知央3、 堤 隆嘉2、 石川 健治2、 堀 勝2 (1.名大院工、2.名大 低温プラズマ科学研究センター、3.キオクシア(株))
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15:30 〜 15:45
〇中原 尚哉1、 森山 誠1、 三矢 晶洋1、 鈴木 陽香1、 豊田 浩孝1 (1.名大工)
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15:45 〜 16:00
〇(D)森山 誠1、 中原 尚哉1、 三矢 晶洋1、 鈴木 陽香1、 豊田 浩孝1 (1.名大工)
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16:00 〜 16:15
〇谷田 知史1、 飯野 大輝1、 久保井 宗一1、 栗原 一彰1、 福水 裕之1 (1.キオクシア)
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16:15 〜 16:30
〇林 俊雄1、 関根 誠1、 石川 健治1、 堀 勝1 (1.名古屋大学工)
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16:45 〜 17:00
〇唐橋 一浩1、 伊藤 智子1、 浜口 智志1 (1.阪大院工)
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17:00 〜 17:15
〇(M1)Hojun Kang1、 Tomoko Ito1、 Junghwan Um2、 Hikaru Kokura2、 Taekyun Kang2、 Sungil Cho2、 Hyunjung Park2、 Kazuhiro Karahashi1、 Satoshi Hamaguchi1 (1.Osaka Univ.、2.Samsung Electronics)
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17:15 〜 17:30
〇濱野 誉1、 占部 継一郎1、 江利口 浩二1 (1.京大院工)
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17:30 〜 17:45
〇布村 正太1、 中根 一也2、 堤 隆嘉2、 松原 浩司1、 堀 勝2 (1.産総研、2.名大)
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17:45 〜 18:00
〇布村 正太1、 坂田 功1、 松原 浩司1 (1.産総研 太陽光発電研究センター)
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