一般セッション(口頭講演)
[19p-S224-1~17] 7.3 微細パターン・微細構造形成技術
2016年3月19日(土) 13:30 〜 18:00 S224 (南2号館)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
13:30 〜 13:45
〇廣芝 伸哉1、 中川 勝1 (1.東北大 多元研)
13:45 〜 14:00
〇山口 徹1、 藤原 聡1 (1.NTT物性基礎研)
14:00 〜 14:15
〇(B)金原 徹尚1、 大窪 諒1、 廣芝 伸哉1、 中川 勝1 (1.東北大多元研)
14:15 〜 14:30
〇嶋田 航大1、 譚 ゴオン1、 野沢 靖久1、 浦上 達宣2、 小山 浩司3、 三田 正弘4、 金子 智5,1、 松田 晃史1、 吉本 護1 (1.東工大、2.三井化学、3.並木精密宝石、4.協同インターナショナル、5.神奈川県産技センター)
14:30 〜 14:45
〇銘苅 春隆1 (1.産総研)
14:45 〜 15:00
〇岡田 真1、 谷口 雄亮2、 春山 雄一1、 小野 浩司3、 川月 喜弘2、 松井 真二1 (1.兵県大高度研、2.兵県大工、3.長岡技科大)
15:00 〜 15:15
〇岡田 真1、 谷口 雄亮2、 春山 雄一1、 小野 浩司3、 川月 喜弘2、 松井 真二1 (1.兵県大高度研、2.兵県大工、3.長岡技科大)
15:15 〜 15:30
〇柳下 崇1、 村越 海斗1、 近藤 敏彰1、 益田 秀樹1 (1.首都大学東京)
15:45 〜 16:00
〇(B)澤田 裕樹1、 藤井 一緒1、 川田 博昭1、 安田 雅昭1、 平井 義彦1 (1.大府大)
16:00 〜 16:15
〇(B)飯田 達矢1、 安田 雅昭1、 川田 博昭1、 平井 義彦1 (1.大府大工)
16:15 〜 16:30
〇(M1)矢野 春菜1、 久保 祥一2、 中川 勝1、 梁 暁斌3、 藤浪 想4、 中嶋 健3 (1.東北大多元研、2.物材機構、3.東工大院理工、4.理研放射光)
16:30 〜 16:45
〇岡田 真1、 松井 真二1 (1.兵県大高度研)
16:45 〜 17:00
〇中村 直登1、 フロリアン カービン2、 川田 博昭1、 平井 義彦1 (1.大府大、2.フラ国高電子応用大)
17:00 〜 17:15
〇(M2)Chalvin Florian1,2、 Tochino Takamitsu1、 Nakamura Naoto1、 Yasuda Masaaki1、 Kawata Hiroaki1、 Hirai Yoshihiko1 (1.Osaka Pref. Univ.、2.ENSEA)
17:15 〜 17:30
田辺 明1、 大町 弘毅1、 〇中村 貴宏1、 佐藤 俊一1、 中川 勝1 (1.東北大多元研)
17:30 〜 17:45
〇関 健斗1、 永瀬 和郎2、 廣芝 伸哉1、 中川 勝1、 中村 貴宏1 (1.東北大多元研、2.(株)ミノグループ)
17:45 〜 18:00
〇銘苅 春隆1、 矢野 隆行2 (1.産総研、2.分子研)