一般セッション(口頭講演)
[9a-W621-1~12] 3.12 ナノ領域光科学･近接場光学
2019年3月9日(土) 09:00 〜 12:15 W621 (W621)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
09:00 〜 09:15
〇(D)Yaguang Wang1、 Xu Shi1、 Tomoya Oshikiri1、 Kosei Ueno1、 Hiroaki Misawa1,2 (1.RIES-Hokkaido Univ.、2.National Chiao Tung Univ.)
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09:15 〜 09:30
〇(M1)伊勢川 知久1、 勝俣 翔平1、 岡本 隆之2、 久保 若奈1 (1.農工大工、2.理研)
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09:30 〜 09:45
〇南本 大穂1、 佐藤 大樹1、 村越 敬1 (1.北大院理)
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09:45 〜 10:00
〇石田 拓也1、 立間 徹1 (1.東大生研)
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10:00 〜 10:15
〇及川 隼平1、 南本 大穂1、 村越 敬1 (1.北大院理)
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10:15 〜 10:30
〇竹森 達也1、 齋地 康太1、 佐藤 匠1、 大鋸本 達郎1、 千足 昇平1、 丸山 茂夫1,2、 野田 真史3、 矢花 一浩3、 飯田 健二4、 信定 克幸4、 八井 崇1 (1.東大院工、2.産総研、3.筑波大学、4.分子研)
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10:45 〜 11:00
鎌倉 涼介1、 〇村井 俊介1,2、 藤田 晃司1、 田中 勝久1 (1.京大院 工、2.JSTさきがけ)
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11:00 〜 11:15
〇(M1)野口 和希1、 村井 俊介1,2、 田中 勝久1 (1.京大院工、2.JSTさきがけ)
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11:15 〜 11:30
〇(B)大西 梓1、 Zu Shuai1、 石 旭1、 孫 泉1、 押切 友也1、 上野 貢生1、 三澤 弘明1,2 (1.北大電子研、2.台湾国立交通大学)
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11:30 〜 11:45
〇(M2)阿川 裕晃1、 松谷 晃宏2、 長谷部 浩一2、 磯部 敏宏1、 中島 章1、 松下 祥子1 (1.東工大材料、2.東工大技術部マイクロプロセス部門)
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11:45 〜 12:00
〇(B)竹島 利彦1、 松谷 晃宏2、 佐藤 美那2、 長谷部 浩一2、 磯部 敏宏1、 中島 章1、 松下 祥子1 (1.東工大材料、2.東工大技術部マイクロプロセス部門)
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12:00 〜 12:15
〇石井 智1,2、 村井 俊介3、 鎌倉 涼介3、 阪本 浩之3、 呉屋 伸哉3、 ダオ タン1、 シンデ サティシュ1、 名村 今日子3、 鈴木 基文3、 長尾 忠昭1,4、 田中 勝久3 (1.物材機構、2.筑波大院数理物質、3.京大院工、4.北大院理)
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