アカデミックプログラム[A講演]
[C203-1am] 18. 高分子
2022年3月23日(水) 09:00 〜 11:20 C203 (年会オンライン)
座長:角田 貴洋、権 正行
09:00 〜 09:10
○長谷山 航大1、杉山 遥香1、小柳津 研一1、瀬川 浩司2、西出 宏之1、須賀 健雄1 (1. 早稲田大学、2. 東大院総合)
09:10 〜 09:20
○五十嵐 優翔1、塚本 彩乃1、畠山 歓1、小柳津 研一1 (1. 早稲田大学)
09:20 〜 09:30
○林 真輝1、石田 鴻太朗1、畠山 歓1、小柳津 研一1 (1. 早稲田大学)
09:30 〜 09:40
○三宅 力優1、網代 広治1 (1. 奈良先端科学技術大学院大学)
09:40 〜 09:50
○廣岡 謙1、大谷 俊介2、加藤 研一2、生越 友樹2,3 (1. 京大工、2. 京大院工、3. 金沢大WPI-NanoLSI)
09:50 〜 10:00
○新庄 雪世1、角田 貴洋1、山岸 忠明1 (1. 金沢大学)
10:00 〜 10:10
○金子 隆1、ラッセル 豪マーティン1、正井 宏1、寺尾 潤1 (1. 東大院総合文化)
10:10 〜 10:20
○川野 勇太郎1、金子 隆1、正井 宏1、寺尾 潤1 (1. 東京大学)
10:20 〜 10:30
○谷 翼1、青木 大亮1、有光 晃二1 (1. 東理大理工)
10:30 〜 10:40
○杉田 健有1、青木 大亮1、有光 晃二1 (1. 東理大理工)
10:40 〜 10:50
○渡邉 高史1、青木 大亮1、有光 晃二1 (1. 東理大理工)
10:50 〜 11:00
○清水 翔平1、相良 剛光1 (1. 東工大物質理工)
11:00 〜 11:10
○松本 育也1、関谷 亮1、中壽賀 章2、福井 弘司2、仁徳 孫2、灰野 岳晴1 (1. 広島大、2. 積水化学工業株式会社)
11:10 〜 11:20
○森崎 祐介1、権 正行1、田中 一生1 (1. 京大院工)