一般セッション(口頭講演)
[19a-224A-1~8] 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
09:30 〜 09:45
〇井藤 聡詞1、 嵐 智明1、 川江 健1 (1.金沢大理工)
09:45 〜 10:00
〇小西 敬太1、 後藤 健2,3,1、 村上 尚1,4、 倉又 朗人3、 山腰 茂伸2,3、 熊谷 義直1,4 (1.東京農工大院工、2.タムラ製作所、3.ノベルクリスタルテクノロジー、4.東京農工大GIR)
10:00 〜 10:15
〇橋川 誠1、 富澤 三世1、 佐々木 公平2、 倉又 朗人2、 大石 敏之1、 大島 孝仁1 (1.佐賀大学、2.タムラ製作所&ノベルクリスタルテクノロジー)
10:15 〜 10:30
〇加藤 勇次1、 松尾 凛汰朗1、 井村 将隆2、 中山 佳子2、 竹口 雅樹2、 大島 孝仁1 (1.佐賀大学、2.NIMS)
10:30 〜 10:45
〇増田 泰久1、 金子 健太郎1、 大島 祐一2、 四戸 孝3、 藤田 静雄1 (1.京大院工、2.物材機構、3.FLOSFIA)
10:45 〜 11:00
〇山野邉 咲子1、 吉田 健人1、 小西 敬太1、 熊谷 義直1,2 (1.東京農工大学大学院工、2.東京農工大学GIR)
11:00 〜 11:15
〇中村 昌幸1、 小林 貴之1、 立田 利明1、 本山 愼一1 (1.サムコ)
11:15 〜 11:30
〇長井 研太1、 中畑 秀利1、 小西 敬太1、 Plamen P. Paskov2、 Bo Monemar2,3、 熊谷 義直1,3 (1.東京農工大院工、2.リンチョーピン大、3.東京農工大GIR)