一般セッション(口頭講演)
[7p-A402-7~23] 8.3 プラズマ成膜・表面処理
2017年9月7日(木) 15:00 〜 19:30 A402 (402+403)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
15:00 〜 15:15
三島 俊彦1、 吉田 涼1、 〇中尾 節男2、 東 欣吾3、 木村 高志1 (1.名工大、2.産総研、3.兵庫県立大)
15:15 〜 15:30
〇岡田 健1、 今岡 享稔2,3,4、 山元 公寿2,3,4、 寒川 誠二1,3,5 (1.東北大流体研、2.東工大化生研、3.JST-CREST、4.ERATO、5.東北大AIMR)
15:30 〜 15:45
〇谷出 敦1,3、 河野 元宏1,3、 高辻 茂1、 堀越 章1,3、 中村 昭平1、 木瀬 一夫1、 灘原 壮一1、 西川 正純2、 江部 明憲2、 石川 健治3、 堀 勝3 (1.(株)SCREENホールディングス、2.(株)EMD、3.名大院工)
15:45 〜 16:00
節原 裕一1、 遠藤 雅1、 〇竹中 弘祐1、 内田 儀一郎1、 江部 明憲2 (1.阪大接合研、2.イー・エム・ディー)
16:00 〜 16:15
〇大野 常久1、 山田 涼輔1、 當摩 哲也1、 石島 達夫1、 田中 康規1、 上杉 喜彦1 (1.金沢大)
16:15 〜 16:30
〇小島 尚1、 都甲 将1、 田中 和真1、 徐 鉉雄1、 板垣 奈穂1、 古閑 一憲1、 白谷 正治1 (1.九州大学)
16:30 〜 16:45
〇藤堂 颯哉1、 下窄 義行1、 廣木 珠代1 (1.キヤノン)
16:45 〜 17:00
〇木元 雄一朗1、 寺脇 功士1、 山崎 啓史1、 前川 健史1、 大参 宏昌1、 垣内 弘章1、 安武 潔1 (1.阪大院工)
17:15 〜 17:30
〇(M2)高橋 美香1、 倉家 尚之1、 石川 健治1、 近藤 真悟2、 青木 孝司2、 堤 隆嘉1、 近藤 博基1、 関根 誠1、 堀 勝1 (1.名大院工、2.株式会社デンソー)
17:30 〜 17:45
〇本村 大成1、 田原 竜夫1 (1.産総研)
17:45 〜 18:00
〇(M2)藤田 至1、 近藤 勇樹1、 谷本 壮1、 針谷 達1、 須田 善行1、 滝川 浩史1、 権田 英修2、 羽田野 泰弘3、 神谷 雅男4 (1.豊技大工、2.オーエスジー、3.小島プレス、4.伊藤光学)
18:00 〜 18:15
〇杉浦 啓嗣1、 近藤 博基1、 石川 健治1、 堤 隆嘉1、 竹田 圭吾2、 関根 誠1、 堀 勝3 (1.名大院工、2.名城大理工、3.名大未来社会創造機構)
18:15 〜 18:30
〇金 載浩1、 榊田 創1、 板垣 宏知1 (1.産総研)
18:30 〜 18:45
〇金 載浩1、 山田 英明1、 榊田 創1 (1.産総研)
18:45 〜 19:00
〇(M1)東後 篤尚1、 山崎 聡士1、 垣内 弘章1、 安武 潔1、 大参 宏昌1 (1.阪大院工)
19:00 〜 19:15
〇(M1)横岩 佑城1、 阿部 良夫1、 川村 みどり1、 金 敬鎬1、 木場 隆之1 (1.北見工大工)
19:15 〜 19:30
〇小笠原 大介1、 川野 浩明1、 宮原 秀一1、 佐藤 千明2、 沖野 晃俊1 (1.東工大未来研、2.東工大フロンティア研)