2019年第80回応用物理学会秋季学術講演会

セッション一覧

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

一般セッション(口頭講演)

[18a-E304-1~9] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2019年9月18日(水) 09:30 〜 11:45 E304 (E304)

東 清一郎(広島大)、岡田 竜弥(琉球大)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

一般セッション(口頭講演)

[18p-E304-1~10] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2019年9月18日(水) 13:45 〜 16:15 E304 (E304)

池上 浩(九大)、羽深 等(横国大)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

一般セッション(口頭講演)

[19a-E304-1~12] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2019年9月19日(木) 09:00 〜 12:00 E304 (E304)

米谷 玲皇(東大)、福島 誉史(東北大)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

一般セッション(口頭講演)

[19p-E304-1~13] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2019年9月19日(木) 13:45 〜 17:15 E304 (E304)

角嶋 邦之(東工大)、羽深 等(横国大)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

14:15 〜 14:30

大堀 大介1、 野田 周一2、 野沢 善幸3、 リャオ ブライアン3、 藤井 竜介3、 速水 利泰3、 門井 幹夫4、 石田 昌久5、 田中 麻美5、 曽田 匡洋5、 遠藤 和彦1,2、 寒川 誠二1,2 (1.東北大流体研、2.産総研、3.SPPテクノロジーズ、4.リソテックジャパン、5.長瀬産業)

一般セッション(ポスター講演)

[20p-PA7-1~8] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2019年9月20日(金) 16:00 〜 18:00 PA7 (第一体育館)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

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