一般セッション(口頭講演)
[13a-A21-1~10] 15.4 III-V族窒化物結晶
2016年9月13日(火) 09:00 〜 11:45 A21 (メインホールA)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
09:00 〜 09:15
〇定 昌史1、 平山 秀樹1 (1.理研)
09:15 〜 09:30
〇野間 友博1、 林 宏暁1、 福島 大史1、 野村 一郎1、 岸野 克巳1 (1.上智大理工)
09:30 〜 09:45
〇大塚 誠1、 藤原 圭吾1、 三宅 秀人2、 福山 博之1 (1.東北大多元研、2.三重大院地域イノベ)
09:45 〜 10:00
〇屋山 巴1、 知京 豊裕1 (1.物材機構)
10:00 〜 10:15
〇西村 辰彦1、 北村 藤和1、 水端 稔1、 中西 英俊1、 酒井 裕司2、 川山 巌2、 斗内 政吉2 (1.SCREEN、2.阪大レーザー研)
10:30 〜 10:45
〇(B)折原 由里子1、 山村 和也1、 蓮池 紀幸1、 播磨 弘1、 福田 承生2、 窪谷 茂幸3、 花田 貴3、 松岡 隆志3 (1.京都工繊大、2.福田結晶技研、3.東北大金研)
10:45 〜 11:00
三浦 敬典1、 松本 啓佑1、 池田 宏輔1、 坂井 祐大1、 〇佐々木 進2 (1.新潟大自、2.新潟大工)
11:00 〜 11:15
〇(M1)清木 良麻1、 小森 大資1、 池山 和希1、 伊奈 稔哲2、 小沼 猛儀3、 宮嶋 孝夫1、 竹内 哲也1、 上山 智1、 岩谷 素顕1、 赤崎 勇1 (1.名城大理工、2.高輝度光科学研、3.工学院大工)
11:15 〜 11:30
〇宮嶋 孝夫1、 小森 大資1、 清木 良麻1、 伊奈 稔哲2、 新田 清文2、 鈴木 健太1、 竹内 哲也1、 宇留賀 朋哉2、 上山 智1、 岩谷 素顕1、 赤﨑 勇1 (1.名城大理工、2.高輝度光科学研)
11:30 〜 11:45
〇出浦 桃子1、 沓掛 健太朗1、 大野 裕1、 米永 一郎1、 谷口 尚2 (1.東北大金研、2.物材機構)