一般セッション(口頭講演)
[11a-N305-1~11] 13.7 化合物及びパワーデバイス・プロセス技術・評価
09:00 〜 09:15
〇伊藤 佑太1、 渡邉 浩崇2、 安藤 悠人2、 出来 真斗4、 狩野 絵美2、 新田 州吾2、 本田 善央2、 五十嵐 信行2、 田中 敦之2,3、 天野 浩2,4,5 (1.名大院工、2.名大IMaSS、3.物材機構、4.名大VBL、5.名大ARC)
09:15 〜 09:30
〇須山 篤志1、 川野輪 仁1、 南川 英輝1、 青木 正彦1 (1.(株) イオンテクノセンター)
09:30 〜 09:45
〇上殿 明良1、 田中 亮2、 高島 信也2、 上野 勝典2、 江戸 雅晴2、 嶋 紘平3、 小島 一信3、 秩父 重英3、 石橋 章司4 (1.筑波大数物、2.富士電機、3.東北大多元研、4.産総研)
09:45 〜 10:00
〇嶋 紘平1、 田中 亮2、 高島 信也2、 上野 勝典2、 江戸 雅晴2、 小島 一信1、 上殿 明良3、 秩父 重英1 (1.東北大多元研、2.富士電機、3.筑波大数物)
10:00 〜 10:15
〇大森 雅登1、 渡邉 健太2、 宮崎 泰成1、 白石 舞翔1、 和田 竜垂1、 大川 峰司2 (1.大分大、2.ミライズテクノロジーズ)
10:15 〜 10:30
〇白石 舞翔1、 宮崎 泰成1、 和田 竜垂1、 渡邉 健太2、 大川 峰司2、 大森 雅登1 (1.大分大、2.ミライズテクノロジーズ)
10:45 〜 11:00
〇遠藤 彗1、 堀田 昌宏1,2、 須田 淳1,2 (1.名大院工、2.名大未来研)
11:00 〜 11:15
〇米村 卓巳1、 斎藤 吉広1 (1.住友電工)
11:15 〜 11:30
〇角谷 正友1、 津田 泰孝2、 坂本 徹哉2、 隅田 真人3、 Sang Liwen1、 原田 善之1、 冨永 亜希2、 吉越 章隆2 (1.物材機構、2.原子力機構、3.理研AIP)
11:30 〜 11:45
〇山田 真嗣1、 白井 雅紀2、 小林 宏樹2、 上村 隆一郎2、 加地 徹3、 須田 淳1,3 (1.名大院工、2.アルバック、3.名大未来研)
11:45 〜 12:00
〇(M2)澤田 尭廣1、 石原 崇寛1、 大堀 大介1、 王 学論3,4、 寒川 誠二1,2 (1.東北大流体研、2.東北大 AIMR、3.産総研、4.名大 IMaSS)