〇野沢 善幸¹、 リャオ ブライアン¹、 藤井 竜介¹、 速水 利泰¹、 大堀 大介²、 野田 周一³、 門井 幹夫⁴、 石田 昌久⁵、 田中 麻美⁵、 曽田 匡洋⁵、 遠藤 和彦³、 寒川 誠二² (1.SPPテクノロジーズ、2.東北大流体研、3.産総研、4.リソテックジャパン、5.長瀬産業)

〇門井 幹夫¹、 石田 昌久²、 田中 麻美²、 曽田 匡洋²、 大堀 大介³、 野田 周一⁴、 野沢 善幸⁵、 リャオ ブライアン⁵、 藤井 竜介⁵、 速水 利泰⁵、 遠藤 和彦⁴、 寒川 誠二³ (1.リソテックジャパン、2.長瀬産業、3.東北大流体研、4.産総研、5.SPPテクノロジーズ)

〇藤崎 寿美子¹、 山口 欣秀¹、 小林 浩之¹、 篠田 和典¹、 山田 将貴¹、 濱村 浩孝¹、 川村 剛平²、 大竹 浩人²、 伊澤 勝² (1.日立研開、2.日立ハイテク)

〇伊藤 智子¹、 唐橋 一浩¹、 浜口 智志¹ (1.阪大院工)

〇平田 瑛子¹、 深沢 正永¹、 長畑 和典²、 李 虎³、 唐橋 一浩⁴、 浜口 智志⁴、 辰巳 哲也¹ (1.ソニーセミコンダクタソリューションズ、2.ソニーセミコンダクタマニュファクチャリング、3.東京エレクトロン、4.大阪大学)

〇(D)森山 誠¹、 三矢 晶洋¹、 中原 尚哉¹、 鈴木 陽香¹、 豊田 浩孝¹ (1.名大工)

〇(M1)Kang Hojun¹、 Ito Tomoko¹、 Um Junghwan²、 Kokura Hikaru²、 Kang Taekyun²、 Cho Sungil²、 Park Hyunjung²、 Isobe Michiro¹、 Karahashi Kazuhiro¹、 Hamaguchi Satoshi¹ (1.Center for Atomic and Molecular Technologies, Graduate School of Enginerring, Osaka Univ、2.Memory Etch Technology Team, Samsung Electronics)

〇濱野 誉¹、 占部 継一郎¹、 江利口 浩二¹ (1.京大院工)

〇山本 昌裕¹、 石井 明男²、 新里 秀平²、 尾方 成信² (1.パナソニック、2.阪大院基礎工)

〇林 俊雄¹、 石川 健治¹、 関根 誠¹、 堀 勝¹ (1.名古屋大学)

〇阿部 優凜¹、 末永 祐磨¹、 星野 智大²、 松舘 芳樹²、 菅野 武彦²、 依田 信裕²、 沖野 晃俊¹、 佐々木 啓一² (1.東工大・未来研、2.東北大・歯)

〇(M2C)林 仲秋¹、 王 鶴¹、 青山 直樹¹、 鈴木 俊明¹、 丹羽 雅昭¹、 本橋 光也¹ (1.東電大工)

〇(M2)古田 昌也¹、 上坂 裕之¹、 古木 辰也¹、 山川 晃司² (1.岐阜大工、2.片桐エンジニアリング)

〇(B)川野 宏太¹、 笹岡 秀紀¹、 古瀬 宗雄¹、 崎山 智司² (1.大島商船高専、2.山口大学国総科)

〇(M1)畑 和史¹、 加納 直樹¹、 中野 裕介¹、 田中 康規¹、 上杉 喜彦¹、 石島 達夫¹ (1.金沢大学)

〇(D)Nguyen ThiKhanh Hoa¹、 Yuri Mizukawa¹、 Hiroaki Hanafusa¹、 Seichiiro Higashi¹ (1.Hiroshima Univ.)

〇田中 康仁^1,2、 Delgado-Fuentes Gabriel¹、 税所 慎一郎²、 一色 秀夫¹ (1.電通大、2.シンクロン)

〇草野 英二¹ (1.金沢工大)

〇宮澤 拓陽¹、 落合 勇太¹、 鈴木 尋之¹、 星野 渉¹、 後藤 みき¹ (1.神奈川工大工)

〇相良 僚佑¹、 川村 みどり¹、 木場 隆之¹、 阿部 良夫¹、 金 敬鎬¹ (1.北見工業大学)

〇(M2)中村 将之¹、 竹田 圭吾¹、 太田 貴之¹ (1.名城大理工)

節原 裕一¹、 〇竹中 弘祐¹、 平山 裕之¹、 遠藤 雅¹、 内田 儀一郎²、 江部 明憲³ (1.阪大接合研、2.名城大理工、3.イー・エム・ディー)

〇(M2)若木 航¹、 三瓶 明希夫¹、 蓮池 紀幸¹、 鴨井 督²、 比村 治彦¹ (1.京工大、2.京府中技セン (現所属：京府ものづくり振興課))

〇川崎 仁晴¹、 大島 多美子¹、 柳生 義人¹、 猪原 武士¹、 篠原 正典¹、 須田 義昭² (1.佐世保高専、2.石川高専)

〇(B)西村 涼汰¹、 吉木 宏之¹ (1.鶴岡高専)

〇(M1)小田 智也¹、 中村 司¹、 高柳 真司¹、 松川 真美¹ (1.同志社大)

〇金島 健太郎¹、 宮原 奈乃華¹、 浦川 聖一¹、 山下 大輔¹、 鎌滝 晋礼¹、 古閑 一憲¹、 白谷 正治¹ (1.九州大学)

〇(M2)Edrick Abu Saidu¹、 Akio Sanpei¹、 Wataru Wakaki¹、 Yasuaki Hayashi¹、 Haruhiko Himura¹ (1.Kyoto Inst. of Tech.)

〇(M1)大川 敦輝¹、 山田 大地²、 大谷 洋平²、 佐藤 哲也¹ (1.山梨大、2.諏訪東京理科大)

〇竹中 弘祐¹、 節原 裕一¹ (1.阪大接合研)

〇(M2)小川 慎¹、 小田 昭紀¹、 太田 貴之²、 上坂 裕之³ (1.千葉工大、2.名城大、3.岐阜大)

〇清水 禎樹¹、 畠山 一翔¹、 石川 善恵¹ (1.産総研ナノ材料)

〇(M2)冨井 颯人¹、 武村 祐一朗¹ (1.近大院総理工)

〇(D)細見 圭¹、 尾崎 孝一¹、 高廣 克己¹、 西山 文隆²、 横山 新² (1.京工繊大、2.広大)

〇前田 尚希¹、 荻野 明久¹ (1.静大院工)

〇池田 唯人¹、 坪内 信輝²、 和田 元¹ (1.同大理工、2.産総研　関西センター)

〇内田 翔太¹、 木村 重哉²、 吉田 学史²、 荻野 明久¹ (1.静大院工、2.(株)東芝)