一般セッション(口頭講演)
[10a-Z04-1~9] 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術
09:30 〜 09:45
〇塩島 謙次1、 田中 亮2、 高島 信也2、 上野 勝典2、 江戸 雅晴2 (1.福井大院工、2.富士電機)
09:45 〜 10:00
〇太田 博1、 浅井 直美1、 吉田 丈洋2、 堀切 文正2、 成田 好伸2、 三島 友義1 (1.法政大学、2.サイオクス)
10:00 〜 10:15
〇高橋 英匡1、 安藤 裕二1、 山口 椋平3、 分島 彰男3、 須田 淳1,2 (1.名大院工、2.名大未来研、3.名工大)
10:15 〜 10:30
〇内田 昌宏1,2、 川角 優斗2、 西村 一巳1、 渡邉 則之2、 塩島 謙次2 (1.NTT-AT、2.福井大院工)
10:30 〜 10:45
〇廣木 正伸1、 谷保 芳孝1、 熊倉 一英1 (1.NTT物性研)
11:00 〜 11:15
〇(M2)松田 陵1、 堀切 文正2、 福原 昇2、 成田 好伸2、 吉田 丈弘2、 三島 友義3、 塩島 謙次1 (1.福井大院工、2.サイオクス、3.法政大)
11:15 〜 11:30
〇(M2)青田 智也1、 早坂 明泰1、 眞壁 勇夫2、 吉田 成輝2、 後藤 高寛1、 宮本 恭幸1 (1.東工大工、2.住電)
11:30 〜 11:45
〇澤田 尭廣1、 大堀 大介1,2,3、 菅原 健太4、 岡田 政也4、 佐藤 大輔5、 栗原 秀行5、 寒川 誠二1,2 (1.東北大学流体研、2.東北大AIMR、3.NCTU、4.住友電工、5.昭和電工)
11:45 〜 12:00
〇隈部 岳瑠1、 安藤 悠人1、 渡邉 浩崇2、 田中 敦之2,3、 本田 善央2、 出来 真斗1,4、 新田 州吾2、 天野 浩2,3,4,5 (1.名大院工、2.名大 IMaSS、3.物材機構、4.名大 VBL、5.名大 ARC)