一般セッション(口頭講演)
[18p-N302-1~18] 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術
2019年9月18日(水) 13:00 〜 18:00 N302 (N302)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
13:00 〜 13:15
〇加藤 正史1,2、 浅田 貴斗1、 朱 帥1、 伊藤 健治3、 冨田 一義3、 成田 哲生3、 加地 徹2 (1.名工大、2.名大、3.豊田中研)
13:15 〜 13:30
〇(M2)伊藤 俊1、 徳田 豊1 (1.愛知工大)
13:30 〜 13:45
〇西田 宗史1、 星井 拓也1、 片岡 寛明1、 筒井 一生2、 角嶋 邦之1、 若林 整1 (1.東工大工学院、2.東工大科学技術創成研究院)
13:45 〜 14:00
〇遠藤 彗1、 鐘ヶ江 一孝1、 堀田 昌宏1,2、 須田 淳1,2 (1.名大院工、2.名大未来研)
14:00 〜 14:15
〇塩島 謙次1、 谷川 智之2、 片山 竜二2、 松岡 隆志3 (1.福井大院工、2.阪大院工、3.東北大NICHe)
14:15 〜 14:30
〇(M1)松田 陵1、 堀切 文正2、 成田 好伸2、 吉田 丈洋2、 三島 友義3、 塩島 謙次1 (1.福井大院工、2.サイオクス、3.法政大)
14:45 〜 15:00
〇(M1)六野 祥平1、 堀田 昌宏1,2、 須田 淳1,2 (1.名大院工、2.名大未来研)
15:00 〜 15:15
〇Toshikazu Yamada1、 Hisashi YAMADA1、 Tokio TAKAHASHI1、 Mituaki SIMIZU1 (1.National Institute of Advanced Industrial Science & Technology)
15:15 〜 15:30
〇櫻井 秀樹1,2,3、 山田 真嗣1,2,3、 高良 昭彦3、 堀田 昌宏1,2、 Bockowski Michal1,4、 須田 淳1,2、 加地 徹1 (1.名大 IMaSS、2.名大院工、3.(株)アルバック半電研、4.UNIPRESS)
15:30 〜 15:45
〇釣本 浩貴1、 堀田 昌宏1,2、 須田 淳1,2 (1.名大院工、2.名大未来研)
15:45 〜 16:00
〇早坂 明泰1、 青沼 遼介1、 堀田 航史1、 金井 七重1、 眞壁 勇夫2、 吉田 成輝2、 宮本 恭幸1 (1.東工大工、2.住友電気工業)
16:00 〜 16:15
〇高橋 昌大1、 田中 敦之2,3、 安藤 悠人1、 渡邉 浩崇2、 出来 真斗2、 久志本 真希1、 新田 州吾2、 本田 善央2、 Chen Kevin J.2,4、 天野 浩2,3,5,6 (1.名大院工、2.名大未来材料・システム研究所、3.物質・材料研究機構、4.香港科技大、5.名大赤﨑記念研究センター、6.名大VBL)
16:30 〜 16:45
〇(M2)河端 晋作1、 アスバル ジョエル1、 徳田 博邦1、 山本 暠勇1、 葛原 正明1 (1.福井大院工)
16:45 〜 17:00
〇越智 亮太1、 安藤 祐次1、 金木 奨太1、 橋詰 保1 (1.北大量集センター)
17:00 〜 17:15
〇鐘ヶ江 一孝1,4、 成田 哲生2、 冨田 一義2、 加地 徹3、 堀田 昌宏1,3,4、 木本 恒暢1、 須田 淳1,3,4 (1.京大院工、2.豊田中研、3.名大 IMaSS、4.名大院工)
17:15 〜 17:30
〇(M2)西谷 高至1、 神谷 俊佑1、 アスバル ジョエル1、 徳田 博邦1、 葛原 正明1 (1.福井大院工)
17:30 〜 17:45
〇(M1)久樂 顕1、 今西 祥一朗1、 堀川 清貴1、 平岩 篤1、 川原田 洋1,2 (1.早稲田大学、2.早大材研)
17:45 〜 18:00
〇(M1)西村 隼1、 岩瀧 雅幸1、 大井 信敬1、 平岩 篤1、 川原田 洋1,2 (1.早大理工、2.早大材研)