2021年第68回応用物理学会春季学術講演会

セッション一覧

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

一般セッション(ポスター講演)

[16p-P13-1~2] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2021年3月16日(火) 17:00 〜 17:50 P13 (ポスター)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

一般セッション(口頭講演)

[18p-Z24-1~14] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2021年3月18日(木) 13:30 〜 17:15 Z24 (Z24)

東 清一郎(広島大)、岡田 竜弥(琉球大)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

13:30 〜 13:45

小原田 賢聖1、 佐竹 雄太1、 吉際 潤2、 嵯峨 幸一郎2、 岩元 勇人2、 門 龍翔1、 澤本 直美1,3、 横川 凌1,3、 小椋 厚志1,3 (1.明治大理工、2.ソニーセミコンダクタソリューションズ(株)、3.再生可能エネルギー研究インスティテュート)

一般セッション(口頭講演)

[19a-Z24-1~10] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2021年3月19日(金) 09:00 〜 11:45 Z24 (Z24)

羽深 等(横国大)、呉 研(日大)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

一般セッション(口頭講演)

[19p-Z24-1~10] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2021年3月19日(金) 13:30 〜 16:15 Z24 (Z24)

角嶋 邦之(東工大)、曽根 正人(東工大)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

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