2020年第81回応用物理学会秋季学術講演会

セッション一覧

13 半導体 » 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

一般セッション(口頭講演)

[9a-Z10-1~11] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2020年9月9日(水) 08:30 〜 11:30 Z10

呉 研(日大)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

一般セッション(口頭講演)

[10a-Z10-1~10] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2020年9月10日(木) 08:45 〜 11:30 Z10

羽深 等(横国大)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

一般セッション(口頭講演)

[10p-Z10-1~17] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術

2020年9月10日(木) 12:30 〜 17:30 Z10

角嶋 邦之(東工大)、岡田 竜弥(琉球大)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

16:15 〜 16:30

Xuesi Li1、 Xianyin Hu1、 Sho Hashimoto1、 Ang Li1、 Reo Kometani1、 Ichiro Yamada2、 Makiko Noma2、 Katsufumi Nakanishi2、 Yusuke Fukuda2、 Kazuyuki Sashida2、 Toshiyuki Takemori2、 Kenichi Maehara2、 Katsuya Ikeda2、 Kenichi Yoshida2、 Yoshio Mita1、 Shin'ichi Warisawa1 (1.Univ. of Tokyo、2.Shindengen Co., Ltd.)

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