一般セッション(口頭講演)
[9a-Z10-1~11] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術
08:30 〜 08:45
〇柳 永シュン1、 村上 勝久1、 李 晓光2、 根本 一正1、 野田 周一1、 田中 宏幸1、 古賀 和博3、 クンプアン ソマワン1,3、 森田 行則1、 松川 貴1、 原 史朗1,3、 竹口 雅樹2、 長尾 昌善1 (1.産総研、2.物材研、3.ミニマルファブ)
08:45 〜 09:00
〇竹下 俊弘1、 クンプアン ソマワン1,2、 根本 一正1、 原 史郎1,2、 小林 健1 (1.産総研、2.ミニマルファブ)
09:00 〜 09:15
〇クンプアン ソマワン1,2、 原 史朗1,2 (1.産総研、2.ミニマルファブ推進機構)
09:15 〜 09:30
〇田中 宏幸1、 新堀 俊一郎2,3、 岩瀬 千克2,3、 クンプアン ソマワン1,2、 原 史朗1,2 (1.産総研、2.ミニマルファブ推進機構、3.三友製作所)
09:30 〜 09:45
〇谷島 孝1、 クンプアン ソマワン1,2、 前川 仁1,2、 原 史朗1,2 (1.産総研、2.ミニマルファブ推進機構)
10:00 〜 10:15
〇Mickael Lozach1、 Sommawan Khumpuang1,2、 Shiro Hara1,2 (1.AIST, Device Technology Research Institute, Minimal System Group, Tsukuba、2.Minimal Fab Promoting Organization, AIST, Tsukuba)
10:15 〜 10:30
〇佐藤 和重1,4、 千葉 貴史1,4、 寺田 昌男1,4、 濱田 健吾1,4、 中山 吉之3、 金森 義明3、 田中 宏幸2、 加瀬 雅2、 クンプアン ソマワン1,2、 原 史朗1,2 (1.ミニマルファブ推進機構、2.産総研、3.東北大、4.坂口電熱)
10:30 〜 10:45
〇小粥 敬成1、 古賀 和博1、 浜本 毅司1、 野田 周一2、 クンプアン ソマワン1,2、 原 史朗1,2 (1.ミニマルファブ推進機構、2.産総研)
10:45 〜 11:00
〇加瀬 雅1、 古賀 和博2、 ソマワン クンプアン1,2、 原 史朗1,2 (1.産業技術総合研究所、2.ミニマルファブ推進機構)
11:00 〜 11:15
〇堀 健太1、 渡部 亨1、 羽深 等1 (1.横国大院理工)
11:15 〜 11:30
室井 光子1、 大谷 真奈1、 〇羽深 等1 (1.横国大院工)