一般セッション(口頭講演)
[9p-S011-1~13] 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
2019年3月9日(土) 13:45 〜 17:15 S011 (南講義棟)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
13:45 〜 14:00
〇曲 勇作1、 濵田 賢一朗1、 増田 健太郎1、 古田 守1,2 (1.高知工大、2.高知工大総研)
14:00 〜 14:15
〇中山 智則1、 高橋 正弘1、 金川 朋賢1、 生内 俊光1、 岡崎 健一1、 山﨑 舜平1 (1.半エネ研)
14:15 〜 14:30
〇生内 俊光1、 保坂 泰靖1、 岡崎 健一1、 山﨑 舜平1 (1.半エネ研)
14:30 〜 14:45
〇柳澤 利樹1、 染谷 優太1、 清水 耕作1 (1.日本大学 生産工)
14:45 〜 15:00
〇中込 真二1、 安田 隆1、 國分 義弘1 (1.石巻専修大理工)
15:00 〜 15:15
〇嶋 紘平1、 小島 一信1、 秩父 重英1 (1.東北大多元研)
15:15 〜 15:30
〇Thant Zin Win1、 Takumi Furukawa1、 Yudai Tanaka1、 Koshi Okita1、 Koji Sue2、 Zenji Yatabe1,3、 Yusui Nakamura1,4,5 (1.GSST, Kumamoto Univ.、2.Fac. of Eng., Kumamoto Univ.、3.POIE, Kumamoto Univ.、4.FAST, Kumamoto Univ.、5.Kumamoto Phoenics)
15:45 〜 16:00
〇馬場 晴之1、 水上 翔太1、 津田 一樹1、 越田 樹1、 山﨑 舜平1 (1.半エネ研)
16:00 〜 16:15
〇(P)ANUPKUMAR VINODRAY SANCHELA1、 Mian Wei2、 Hai Jun Cho1,2、 Hiromichi Ohta1,2 (1.RIES-Hokkaido Univ.、2.IST-Hokkaido Univ.)
16:15 〜 16:30
〇中居 克彦1、 野網 健悟1、 二木 登史郎1、 大葉 悦子2、 干川 圭吾3 (1.日鉄住金テクノロジー、2.不二越機械工業、3.信州大学)
16:30 〜 16:45
〇桝谷 聡士1、 佐々木 公平2,3、 倉又 朗人2,3、 小林 拓実4、 干川 圭吾5、 上田 修6、 嘉数 誠1 (1.佐賀大院工、2.ノベルクリスタルテクノロジー、3.タムラ製作所、4.不二越機械工業、5.信州大、6.金沢工大)
16:45 〜 17:00
〇嘉数 誠1、 片桐 英鉄1、 佐々木 公平2、 川崎 克己3、 平林 潤3、 山腰 茂伸4、 倉又 朗人2 (1.佐賀大院工、2.ノベルクリスタルテクノロジー、3.TDK、4.タムラ製作所)
17:00 〜 17:15
〇古林 寛1、 山本 哲也1 (1.高知工科大総研)