一般セッション(口頭講演)
[5a-C17-1~10] 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術
09:30 〜 09:45
〇上村 崇史1、 中田 義昭1、 倉又 朗人2、 山腰 茂伸2、 東脇 正高1 (1.情通機構、2.タムラ製作所)
09:45 〜 10:00
〇金子 喬1、 宗田 伊里也1、 星井 拓也1、 若林 整1、 筒井 一生2、 岩井 洋2、 角嶋 邦之1 (1.東工大工学院、2.東工大研究院)
10:00 〜 10:15
〇佐々木 公平1,2、 ティユ クァン トゥ1、 脇本 大樹1,2、 小石川 結樹1,2、 倉又 朗人1,2、 山腰 茂伸1,2 (1.ノベルクリスタルテクノロジー、2.タムラ製作所)
10:15 〜 10:30
〇佐々木 公平1,2、 ティユ クァン トゥ1、 脇本 大樹1,2、 小石川 結樹1,2、 倉又 朗人1,2、 山腰 茂伸1,2 (1.ノベルクリスタルテクノロジー、2.タムラ製作所)
10:30 〜 10:45
〇ManHoi Wong1、 Akinori Takeyama2、 Takahiro Makino2、 Takeshi Ohshima2、 Kohei Sasaki3、 Akito Kuramata3、 Shigenobu Yamakoshi3、 Masataka Higashiwaki1 (1.NICT、2.QST、3.Tamura Corp.)
11:00 〜 11:15
〇ManHoi Wong1、 Ken Goto2,3、 Akito Kuramata2、 Shigenobu Yamakoshi2、 Hisashi Murakami3、 Yoshinao Kumagai3、 Masataka Higashiwaki1 (1.NICT、2.Tamura Corp.、3.Tokyo Univ. Agricul. Technol.)
11:15 〜 11:30
〇ManHoi Wong1、 Chia-Hung Lin1、 Akito Kuramata2、 Shigenobu Yamakoshi2、 Masataka Higashiwaki1 (1.NICT、2.Tamura Corp.)
11:30 〜 11:45
〇林 家弘1、 ワン マンホイ1、 小西 敬太2、 東脇 正高1 (1.情通機構、2.東京農工大院工)
11:45 〜 12:00
〇今立 宏美1、 神原 仁志2、 徳田 梨絵2、 松田 時宜2、 四戸 孝2、 塩島 謙次1 (1.福井大院工、2.(株)FLOSFIA)
12:00 〜 12:15
〇河原 克明1、 織田 真也1、 徳田 梨絵1、 神原 仁志1、 奥田 貴史2、 人羅 俊実1 (1.(株)FLOSFIA、2.京大院工)