一般セッション(口頭講演)
[15a-B410-1~9] 13.4 Si系プロセス・Si系薄膜・MEMS・装置技術
09:00 〜 09:15
〇Mickael Lozach1、 Kazushige Sato1,2、 Sommawan Khumpuang1,3、 Shiro Hara1,3,4 (1.Minimal Fab、2.Sakaguchi E.H. VOC、3.AIST、4.Hundred)
09:15 〜 09:30
〇中道 修平1、 本郷 仁啓1、 三浦 典子1、 居村 史人2,3、 クンプアン ソマワン1,2、 原 史朗1,2,3 (1.ミニマルファブ、2.産総研、3.(株)Hundred Semiconductors)
09:30 〜 09:45
〇浜本 毅司1、 北山 侑司3、 丸山 智史3、 クンプアン ソマワン1,2、 柴 育成3、 原 史朗1,2,4 (1.ミニマルファブ、2.産総研、3.横河ソリューション、4.(株)Hundred Semiconductors)
09:45 〜 10:00
〇佐藤 和重1,3、 千葉 貴史1,3、 寺田 昌男1,3、 濱田 健吾1,3、 クンプアン ソマワン1,2、 原 史朗1,2,4 (1.ミニマルファブ推進機構、2.産総研、3.坂口電熱、4.Hundred Semiconductors)
10:15 〜 10:30
〇田中 宏幸1、 徳永 博司2、 野沢 善幸3、 速水 利泰3、 クンプアン ソマワン1,4、 原 史朗1,4,5 (1.産総研、2.MTC、3.SPPテクノロジーズ、4.ミニマルファブ推進機構、5.Hundred Semiconductors)
10:30 〜 10:45
〇根本 一正1、 谷島 孝1、 三浦 典子2、 佐藤 和重2、 クンプアン ソマワン1,2、 原 史朗1,2,3 (1.産総研、2.ミニマルファブ、3.(株)Hundred Semiconductors)
10:45 〜 11:00
〇居村 史人1,2、 大園 満1、 クンプアン ソマワン1,3、 原 史朗1,2,3 (1.産総研、2.Hundred、3.ミニマルファブ)
11:00 〜 11:15
〇加瀬 雅1、 クンプアン ソマワン1,2、 原 史朗1,2,3 (1.産総研、2.ミニマル、3.Hundred Semiconductors)
11:15 〜 11:30
〇三浦 典子1、 橋本 直樹2、 北村 是尊2、 居村 史人3,4、 石田 夕起1,3、 クンプアン ソマワン1,3、 原 史朗1,3,4 (1.ミニマルファブ推進機構、2.フジインバック、3.産総研、4.(株)Hundred Semiconductors)