一般セッション(口頭講演)
[20a-B31-1~12] 21.1 合同セッションK 「ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス」
2019年9月20日(金) 09:00 〜 12:15 B31 (B31)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
09:00 〜 09:15
〇(D)曲 勇作1、 増田 健太郎1、 牧野 久雄1,2、 古田 守1,2 (1.高知工科大、2.高知工科大総研)
09:15 〜 09:30
〇清水 耕作1 (1.日大生産工(院))
09:30 〜 09:45
〇是友 大地1、 古田 守1,2 (1.高知工科大、2.高知工科大総研)
09:45 〜 10:00
〇上野 充1、 半那 拓1、 小林 大士1、 新井 真1、 清田 淳也1 (1.アルバック)
10:00 〜 10:15
〇(M1C)森 海1、 是友 大地1、 河野 守哉1、 古田 守1,2 (1.高知工科大、2.総研)
10:15 〜 10:30
〇(M1C)神寳 健太1、 是友 大地1、 古田 守1、 川嶋 絵美2、 霍間 勇輝2 (1.高知工科大、2.出光興産)
10:45 〜 11:00
〇高橋 崇典1、 藤井 茉美1、 宮永 美紀2、 Bermundo Juan Paolo1、 石河 泰明1、 浦岡 行治1 (1.奈良先端大、2.住友電気工業株式会社)
11:00 〜 11:15
〇橋間 裕貴1、 髙橋 崇典1、 石河 泰明1、 浦岡 行治1 (1.奈良先端大)
11:15 〜 11:30
〇小林 陸1,2、 生田目 俊秀2、 栗島 一徳2,3、 女屋 崇1,2,4、 大井 暁彦2、 池田 直樹2、 長田 貴弘2、 塚越 一仁2、 小椋 厚志1 (1.明大理工、2.物材機構 MANA、3.学振PD、4.学振DC)
11:30 〜 11:45
〇Ployrung Kesorn1、 Juan Paolo Bermundo1、 Naofumi Yoshida2、 Toshiaki Nonaka2、 Mami N. Fujii1、 Yasuaki Ishikawa1、 Yukiharu Uraoka1 (1.Nara Institute of Science and Technology、2.Merck Performance Material Ltd.)
11:45 〜 12:00
〇(M2)Aimi Syairah Safaruddin1、 Juan Paolo Bermundo1、 Naofumi Yoshida2、 Toshiaki Nonaka2、 Mami N. Fujii1、 Yasuaki Ishikawa1、 Yukiharu Uraoka1 (1.NAIST for Nara Institute of Science and Technology、2.MERCK for Merck Performance Materials Ltd.)
12:00 〜 12:15
〇(D)Dianne Cabrejas Corsino1、 Juan Paolo Bermundo1、 Mami Fujii1、 Yasuaki Ishikawa1、 Hiroshi Ikenoue2、 Yukiharu Uraoka1 (1.NAIST、2.Kyushu Univ.)