一般セッション(口頭講演)
[9a-M121-1~11] 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術
09:30 〜 09:45
〇平岩 篤1,2、 大久保 智3、 堀川 清貴3、 川原田 洋1,2,3,4 (1.早大ナノ・ライフ、2.名大未来研、3.早大理工、4.早大材研)
09:45 〜 10:00
〇大田 晃生1、 牧原 克典1、 生田目 俊秀2、 塩﨑 宏司1、 宮﨑 誠一1 (1.名大、2.物材機構)
10:00 〜 10:15
〇上沼 睦典1、 安藤 領汰1、 古川 暢昭1、 石河 泰明1、 浦岡 行治1 (1.奈良先端大)
10:15 〜 10:30
〇山田 高寛1、 和田 悠平1、 寺島 大貴1、 野崎 幹人1、 上野 勝典2、 高島 信也2、 山田 永3、 高橋 言緒3、 清水 三聡3、 細井 卓治1、 志村 考功1、 渡部 平司1 (1.大阪大学、2.富士電機、3.産総研)
10:30 〜 10:45
〇田岡 紀之1、 グェン フウ チュン1、 山田 永1、 高橋 言緒1、 清水 三聡1,2 (1.産総研-名大GaN-OIL、2.名大 IMaSS)
10:45 〜 11:00
〇(D)長川 健太1、 白石 賢二2,1 (1.名大院工、2.名大未来研)
11:15 〜 11:30
〇(M1)青島 慶人1、 金木 奨太2、 堀田 昌宏1,3、 須田 淳1,3、 橋詰 保2 (1.名大院工、2.北大量エレ研、3.名大未来研)
11:30 〜 11:45
〇(M1C)河端 晋作1、 アスバル ジョエル1、 徳田 博邦1、 山本 暠勇1、 葛原 正明1 (1.福井大院工)
11:45 〜 12:00
〇村瀬 亮介1、 前田 拓也2、 鐘ヶ江 一孝2、 堀田 昌宏1,2,3、 須田 淳1,2,3 (1.名大院工、2.京大院工、3.名大未来材料・システム研究所)
12:00 〜 12:15
〇鐘ヶ江 一孝1、 藤倉 序章2、 乙木 洋平2、 今野 泰一郎2、 吉田 丈洋2、 堀田 昌宏1,3,4、 木本 恒暢1、 須田 淳1,3,4 (1.京大院工、2.SCIOCS、3.名大未来材料・システム研究所、4.名大院工)
12:15 〜 12:30
〇(B)六野 祥平1、 坂尾 佳祐2、 堀田 昌宏2,3、 須田 淳2,3 (1.名大工、2.名大院工、3.名大未来研)