一般セッション(口頭講演)
[18a-C302-1~12] 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術
09:00 〜 09:15
〇前田 拓也1、 成田 哲生2、 兼近 将一2、 上杉 勉2、 加地 徹3、 木本 恒暢1、 堀田 昌宏1、 須田 淳1,3,4 (1.京大院工、2.豊田中央研究所、3.名大未来材料・システム研究所、4.名大院工)
09:15 〜 09:30
〇安藤 悠人1、 永松 謙太郎2、 田中 敦之2,3、 宇佐美 茂佳1、 バリー ウスマン11、 出来 真斗2、 久志本 真希1、 新田 州吾2、 本田 善央2、 天野 浩2,3,4,5 (1.名大院工、2.名大IMaSS、3.物質・材料研究機構、4.名大ARC、5.名大VBL)
09:30 〜 09:45
〇星 泰暉1、 李 小波1、 敖 金平1 (1.徳島大院工)
09:45 〜 10:00
〇(DC)宇佐美 茂佳1、 福島 颯太1、 安藤 悠人1、 田中 敦之2,3、 永松 謙太郎2、 久志本 真希1、 出来 真斗2、 新田 州吾2、 本田 善央2、 天野 浩2,4,5 (1.名大院工、2.未来材料・システム研究所、3.物材研、4.赤﨑記念研究センター、5.VBL)
10:00 〜 10:15
〇宇佐美 茂佳1、 菅原 義弘2、 姚 永昭2、 石川 由加里2,4、 間山 憲仁3、 戸田 一也3、 安藤 悠人1、 田中 敦之4,5、 永松 謙太郎4、 久志本 真希1、 出来 真斗4、 新田 州吾4、 本田 善央4、 天野 浩4,6,7 (1.名大院工、2.JFCC、3.東芝ナノアナリシス、4.未来材料システム研究所、5.物材研、6.赤﨑記念研究センター、7.VBL)
10:15 〜 10:30
太田 博1、 林 賢太郎1、 堀切 文正2、 成田 好伸2、 吉田 丈洋2、 〇三島 友義1 (1.法政大、2.サイオクス)
10:45 〜 11:00
〇上岡 義弘1、 出来 真斗2、 本田 善央2、 天野 浩2,3,4 (1.出光興産、2.名大 未来材料・システム研、3.名大 赤﨑記念研究センター、4.名大 ベンチャービジネスラボラトリ)
11:00 〜 11:15
〇山本 拓司1、 白井 雅紀1、 高澤 悟1、 石橋 暁1 (1.アルバック)
11:15 〜 11:30
〇角野 純平1 (1.名工院工)
11:30 〜 11:45
〇堀切 文正1、 成田 好伸1、 吉田 丈洋1 (1.(株)サイオクス)
11:45 〜 12:00
〇山田 真嗣1,2、 櫻井 秀樹1,2,3、 大森 雅登1、 須田 淳1,3、 長田 大和2、 上村 隆一郎2、 及木 達矢4、 橋詰 保1,4、 加地 徹1 (1.名大 未来材料・システム研究所、2.(株)アルバック半電研、3.名大院工、4.北大量集セ)
12:00 〜 12:15
〇花房 宏明1、 東 清一郎1、 塩崎 宏司2 (1.広大院先端研、2.名大未来研)