一般セッション(口頭講演)
[19p-CE-5~17] 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術
2018年9月19日(水) 15:00 〜 18:45 CE (センチュリーホール)
△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし
15:00 〜 15:30
〇藤倉 序章1、 今野 泰一郎1、 吉田 丈洋1、 堀切 文正1 (1.サイオクス)
15:30 〜 15:45
〇平岩 篤1,4、 大久保 智2、 堀川 清貴2、 川原田 洋2,3 (1.早大ナノ・ライフ、2.早大理工、3.早大材研、4.名大未来研)
15:45 〜 16:00
〇及木 達矢1、 橋詰 保1 (1.北大量集セ)
16:00 〜 16:15
〇金木 奨太1、 橋詰 保1 (1.北大量集セ)
16:15 〜 16:30
〇山田 高寛1、 寺島 大貴1、 野崎 幹人1、 山田 永2、 高橋 言諸2、 清水 三聡2、 吉越 章隆3、 細井 卓治1、 志村 考功1、 渡部 平司1 (1.阪大院工、2.産総研、3.原子力機構)
16:30 〜 16:45
〇山田 高寛1、 寺島 大貴1、 野崎 幹人1、 山田 永2、 高橋 言諸2、 清水 三聡2、 細井 卓治1、 志村 考功1、 渡部 平司1 (1.阪大院工、2.産総研)
17:00 〜 17:15
〇齋藤 進1、 高橋 和照1、 Salmon Michael E.2、 新宮 一恵1 (1.ナノサイエンス(株)、2.EAG Inc.)
17:15 〜 17:30
〇櫻井 秀樹1,2,3、 山田 真嗣1,2,3、 大森 雅登1、 古川 幸弘3、 鈴木 英夫3、 Boćkowski Michał1,4、 須田 淳1,2、 加地 徹1 (1.名大 未来材料・システム研究所、2.名大院工、3.(株)アルバック 半電研、4.UNIPRESS)
17:30 〜 17:45
〇花房 宏明1、 東 清一郎1、 塩崎 宏司2 (1.広大先端研、2.名大未来・システム研)
17:45 〜 18:00
〇前川 順子1、 川野輪 仁1、 青木 正彦1、 高廣 克己2、 一色 俊之2 (1.1.㈱イオンテクノセンター、2.2.京都工芸繊維大学)
18:00 〜 18:15
〇福田 清貴1,2、 高島 信也3、 尾沼 猛儀2、 山口 智広2、 本田 徹2、 上殿 明良4、 角谷 正友1 (1.物材機構、2.工学院大、3.富士電機、4.筑波大)
18:15 〜 18:30
〇福田 清貴1,2、 浅井 祐哉3、 関 慶祐4、 Sang Liwen1、 吉越 章隆5、 上殿 明良3、 石垣 隆正4、 尾沼 猛儀2、 山口 智広2、 本田 徹2、 角谷 正友1 (1.物材機構、2.工学院大、3.筑波大、4.法政大、5.原子力機構)
18:30 〜 18:45
〇高橋 昌大1、 田中 敦之2,3、 宇佐美 茂佳1、 安藤 悠人1、 出来 真斗2、 久志本 真希1、 新田 州吾2、 本田 善央2、 天野 浩2,3,4,5 (1.名大院工、2.名大未来材料・システム研究所、3.物質・材料研究機構、4.名大赤﨑記念研究センター、5.名大VBL)