2018年第79回応用物理学会秋季学術講演会

セッション一覧

13 半導体 » 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

一般セッション(口頭講演)

[19p-CE-5~17] 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2018年9月19日(水) 15:00 〜 18:45 CE (センチュリーホール)

加藤 正史(名工大)、佐藤 威友(北大)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

一般セッション(口頭講演)

[20a-331-1~13] 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2018年9月20日(木) 09:00 〜 12:30 331 (国際会議室)

熊崎 祐介(富士通研)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

一般セッション(口頭講演)

[20p-331-1~13] 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2018年9月20日(木) 13:45 〜 17:15 331 (国際会議室)

塩島 謙次(福井大)、加藤 正史(名工大)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

13:45 〜 14:00

福島 颯太1、 宇佐美 茂佳1、 安藤 悠人1、 田中 敦之2,5、 出来 真斗2、 久志本 真希1、 新田 州吾2、 本田 善央2、 天野 浩2,3,4,5 (1.名大院工、2.未来材料・システム研、3.赤崎記念研究センター、4.VBL、5.物質・材料研究機構)

14:30 〜 14:45

前田 拓也1、 成田 哲生2、 上田 博之2、 兼近 将一2、 上杉 勉2、 加地 徹3、 木本 恒暢1、 堀田 昌宏1、 須田 淳1,3,4 (1.京大院工、2.豊田中央研究所、3.名大未来材料・システム研究所、4.名大院工)

一般セッション(口頭講演)

[21a-331-1~12] 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2018年9月21日(金) 09:00 〜 12:15 331 (国際会議室)

成田 哲生(豊田中研)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

一般セッション(口頭講演)

[21p-331-1~8] 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2018年9月21日(金) 13:45 〜 16:00 331 (国際会議室)

久保 俊晴(名工大)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

一般セッション(ポスター講演)

[18p-PA6-1~30] 13.7 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2018年9月18日(火) 16:00 〜 18:00 PA (イベントホール)

△:奨励賞エントリー
▲:英語発表
▼:奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄:どちらもなし

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